高纯铟化学分析方法 第1部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法YST981.1-2024.pdf

1、高纯铟化学分析方法 第1部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法YST981.1-2024讲解了适用于高纯铟材料中多种痕量杂质元素定量分析的标准化检测技术路径，系统规定了辉光放电质谱法（GD-MS）在该领域应用的技术原理、仪器设备配置要求、样品制备规范、校准方法、测量程序、数据处理方式及结果报告格式。该标准明确了可测定的典型杂质元素范围，涵盖过渡金属（如Fe、Ni、Cu、Cr）、碱土与碱金属（如Na、K、Ca、Mg）、难熔金属（如W、Mo、Ta）及类金属（如Si、Ge、As）等共计30余种元素，检测限普遍达10 g/g量级，具备极高的灵敏度、宽动态线性范围和良好重复性。标准特别强调对铟基体

2、效应的校正策略，提出采用基体匹配校准标样或数学修正模型以消除离子产率偏差，并对表面清洁、溅射稳定性、多原子干扰排除（如氧化物、双原子离子）等关键操作环节作出详细说明。同时，标准设定了方法验证指标，包括检出限、定量限、精密度（RSD20%）、加标回收率（85%115%）及实验室间比对要求，确保分析结果的可靠性与可比性，为高纯铟作为半导体靶材、红外光学窗口及IIIA族化合物半导体前驱体的核心原料质量控制提供了权威、统一的技术支撑。高纯铟化学分析方法 第1部分：痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法YST981.1-2024适用于从事高纯金属研发、生产与质量检验的冶金企业、有色金属研究院所、第三方检测机构及半导体材料制造单位；特别适用于铟锭、铟靶材、铟箔、铟丝等高纯铟及其衍生产品的出厂检验、型式试验、工艺过程监控与入厂原材料验收等场景；同时覆盖国家及行业质检中心开展能力验证、方法确认和标准物质研制等相关工作。该标准对具备辉光放电质谱仪配置能力且承担高纯金属痕量杂质分析任务的技术人员、检验工程师、标准化工作者及实验室管理人员具有直接指导价值，是保障高端电子功能材料纯净度达标、支撑集成电路、LED、CIGS薄膜太阳能电池等战略新兴产业供应链安全的重要技术依据。