高纯钨化学分析方法 痕量元素含量的测定 辉光放电质谱法YST901-2024.pdf

1、高纯钨化学分析方法 痕量元素含量的测定 辉光放电质谱法YST901-2024讲解了针对高纯钨材料中多种痕量杂质元素（包括但不限于Al、Ca、Cr、Cu、Fe、Mg、Mn、Na、Ni、Si、Ti、Zn等数十种元素）的定性与定量分析技术路径，系统阐述了辉光放电质谱法（GD-MS）在超低含量（可达10 g/g级，即亚ppt级）检测中的原理、仪器配置要求、样品制备规范、标准物质选择原则、校准策略、干扰校正方法及测量不确定度评定要点。该标准明确了钨基体样品以固体导电靶材形式直接引入辉光放电离子源的前处理流程，规避了传统湿法消解可能导致的空白污染与元素损失问题；规定了射频电源功率、工作气压、溅射时间、质量

2、扫描范围等关键参数的控制区间，并对同位素丰度比校正、多原子离子干扰识别（如ArO对Fe的干扰）、氧化物产率监控等实操难点提出具体解决措施。标准还设定了方法检出限、重复性限和再现性限的技术指标，强调实验室间比对验证与质控样品插入频次，确保数据可比性与结果可靠性。整套方法突出高灵敏度、低基体效应、多元素同步分析及微损检测优势，填补了我国高纯钨材料痕量杂质分析领域缺乏权威行业标准的空白，为高纯钨在半导体靶材、高温合金、核工业屏蔽材料等高端应用中的质量控制提供了可溯源、可复现的检测依据。高纯钨化学分析方法 痕量元素含量的测定 辉光放电质谱法YST901-2024适用于钨冶金生产企业、高纯金属材料研发机构、半导体靶材制造企业、航空航天高温合金用材质检部门、核能装备材料认证实验室以及承担国家级新材料检验检测任务的第三方检测机构。尤其适用于需对99.999%（5N）及以上纯度钨原料或半成品进行全元素痕量杂质筛查与精确赋值的技术人员、分析化学工程师、质量控制主管及标准化管理人员。该标准亦可作为高校材料科学与工程、分析化学等相关专业开展高纯金属表征教学实验及科研项目的方法依据，支撑先进有色金属材料产业高质量发展与关键基础材料自主可控战略实施。