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活性金属钎焊(AMB)陶瓷基板TCI 918-2025.docx

1、活性金属钎焊(AMB)陶瓷基板讲解了电子封装领域中采用活性金属钎焊工艺制备陶瓷基板的完整技术规范,系统规定了其分类、材料构成、外观与尺寸公差、关键性能指标及对应的检测方法。该标准明确区分通孔型与常规型AMB基板两类结构形式,细化了对陶瓷基体(如氮化铝、氮化硅)、铜箔材质(符合GB/T 14594无氧铜要求)、钎焊层活性元素(Ti、Zr、Hf、V等)的成分与冶金结合要求;描述了从表面粗糙度、翘曲度、击穿强度、覆铜空洞率、铜箔剥离强度,到高温耐温性、冷热循环可靠性、岛间漏电流、表面离子污染等23项核心性能的技术限值与试验条件;明确了各项检测所依据的国家与行业标准,涵盖微观结构表征(晶粒尺寸、空洞率

2、)、电学性能(绝缘耐压、可焊性、引线键合强度)、环境适应性(冷热冲击、贮存严酷等级GB/T 4798.1)以及过程控制类指标(镀层厚度X射线法测定、表面清洁度)。文件还严格界定了检验规则体系,包括鉴定检验与质量一致性检验的项目频次、抽样方案(引用GB/T 2828.1 AQL抽样),并对包装、标识、运输及贮存环境提出防静电、防潮、避震等安全防护要求,体现了对高可靠性功率半导体封装基板全生命周期质量管控的深度覆盖。活性金属钎焊(AMB)陶瓷基板适用于从事功率半导体模块设计、制造与封装的企业,包括IGBT、SiC MOSFET、MOSFET模块厂商及配套基板供应商;适用于电子元器件可靠性试验机构、第三方检测实验室、军用与车规级电子产品质量监督部门;适用于高校及科研院所中开展先进陶瓷电子封装、真空钎焊界面科学、高温功率器件热管理研究的技术人员;同时适用于原材料制造商(氮化硅/氮化铝陶瓷基片、活性钎料合金、高纯无氧铜箔生产企业)及装备制造商(真空钎焊炉、自动光学检测设备、冷热冲击试验箱厂商),为其产品开发、工艺验证、出厂检验与供应链协同提供统一的技术基准与合规依据。

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