多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法GBT24582-2023.pdf

多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法GBT24582-2023讲解了关于通过酸浸取结合电感耦合等离子体质谱技术定量检测多晶硅表面金属杂质的标准化流程。文件明确描述用酸从多晶硅样品中有效浸取出各种金属杂质的过程，保证杂质能够被充分提取。后续用电感耦合等离子体质谱仪来定量分析多晶硅材料上附着或包含的碱金属如钠钾、碱土金属例如钙及一系列过渡元素比如铁镍铜锌铝等的含量。该方法确保测定范围可达极低浓度水平，低至0.01纳克每克。整个测量步骤涵盖精确控制的酸浸取条件以实现高效杂质溶解，以及高灵敏度和选择性的电感耦合等离子体质谱分析设置，旨在提供准确可靠的数据支持以满足现代工业对于高纯度多晶硅材料的需求。多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法GBT24582-2023适用于关注多晶硅产品质量控制领域，尤其是太阳能级与电子级多晶硅产业的相关企业技术人员以及质检部门。在太阳能光伏发电行业和半导体制造业当中，这一标准提供了权威的技术指导和支持，有助于确保多晶硅原料中各类微量关键杂质得到精确测定，进而促进最终产品性能达到高标准要求。它也适合第三方实验室或研究机构在进行有关于这类重要原材料分析工作时参考使用。