硅片表面光泽度的测试方法GBT42789-2023.pdf

硅片表面光泽度的测试方法GBT42789-2023讲解了以特定几何条件下的光反射法来测定硅片表面光泽度的标准程序，这些几何条件是基于20度、60度或85度的不同角度来进行光反射测量。文档指出这一系列测试操作针对不同类型加工后的硅材料进行，旨在通过统一的测量角度规范光泽度这一物理特性值的取得方式。其描述了具体的操作细则和技术要求，用于确保在各类相关应用环境中获取到可靠的硅片表面特性数据，对于保证产品质量和性能检测的一致性具有重要作用。文件特别明确了不包括对表面有图形结构硅片在内的其他特殊情况测试情况，聚焦于那些没有图形干扰的平滑硅片表面上，以期为后续研究或应用提供准确一致的参考指标，使用户能够在不同设备或实验条件下复现出相同精度级别的光泽度测量结果。硅片表面光泽度的测试方法GBT42789-2023适用于半导体制造行业中的硅材料加工领域，包括那些从事硅腐蚀片、抛光片以及外延片生产或处理的企业和个人。该标准也为科研院所和质检部门提供了重要的技术依据，在涉及硅材料表面特性的评估时能够遵循这一标准进行规范化的测量。这有助于保障所使用或者开发的硅片符合预期光学属性，支持高质量硅产品的开发与流通。